當前所在位置: 首頁(yè) > 產(chǎn)品首頁(yè) > 電力、電子、半導體 > 光學(xué)器件
這些 5,000 MHz RC(輻射補償)AT 切割石英晶體經(jīng)過(guò)優(yōu)化,適用于需要在熱應力和工藝應力下保持高穩定性的高性能沉積系統。它們由 Phillip Technologies 制造,采用單錨電極圖案,并與 Balzers、Evatec 以及其他采用此配置的傳統傳感器頭完全兼容。RC 晶體可在高達 300°C 的溫度范圍內工作,可消除標準石英在熱輻射、等離子體暴露或腐蝕性濺射條件下常見(jiàn)的誤報率尖峰和測量不穩定性。
選擇適合您工藝環(huán)境的材質(zhì):
金 (Au):抗腐蝕和活性物質(zhì)性能;在熱負荷下性能可靠
銀 (Ag):Q 值高(max);適用于清潔、高精度真空工藝
鋁 (Al):與石英具有好的熱兼容性;在鋁基或高溫沉積中表現良好
所有涂層均采用真空沉積,并經(jīng)過(guò)邊緣完整性和厚度均勻性檢測。
產(chǎn)地:美國
材質(zhì):純二氧化硅單晶,電子級石英
尺寸:外徑 0.550 " + 0.000/- 0.002 "
輪廓:平凸
表面處理:平面和輪廓面粗糙度均方根值 7 微米
缺陷:直徑 13.95 毫米的通光孔徑內無(wú)碎片、劃痕或蝕刻痕跡
電極:“Balzers”圖案化合金
諧振頻率:4.960-4.975 MHz,基波串聯(lián)諧振
電阻:<40 歐姆,鍍層
接觸電阻:<10 歐姆(圖案側邊到邊)
雜散模式:first非諧波 >150 KHz 高于基波
電極錯位:無(wú)
顏色不均勻:無(wú)
圖案偏離中心:無(wú)
劃痕、磨損或蝕刻痕跡:無(wú)
碎片或裂紋:無(wú)
高溫薄膜沉積(ALD、CVD、濺射)
Balzers、Evatec 及類(lèi)似平臺的傳統 QCM 探頭
需要速率穩定性和熱彈性的環(huán)境
光學(xué)鍍膜、半導體、先進(jìn)材料
生產(chǎn)和研發(fā)中的QCM 計量
Copyright© 2013-2023 上海連航機電科技有限公司 版權所有
地址:上海市寶山區滬太路1866號諾誠M7創(chuàng )意園B區211
電話(huà) (Tel.):400-135-1288 傳真 (Fax):400-135-1288 郵箱 (E-mail):info@linhorn.com
 
掃描微信二維碼關(guān)注我們