ONTO光刻系統JetStep G45

JetStep G45 系統可滿(mǎn)足移動(dòng)顯示行業(yè)的苛刻要求。該系統基于成熟的步進(jìn)技術(shù)，將優(yōu)化的性能與良好的擁有成本相結合。JetStep G45 系統在 >200mm 的視場(chǎng)直徑范圍內具有 <1.5μm 的分辨率能力。低失真光學(xué)結合高速運動(dòng)使系統能夠實(shí)現<0.5μm的覆蓋。JetStep G45 系統放大光學(xué)器件允許使用 6 英寸標線(xiàn)片（掩模），與競爭技術(shù)相比，顯著(zhù)降低了加工成本。此外，該系統占地面積小，可大限度地降低設施成本，其無(wú)摩擦運動(dòng)可減少磨損，從而降低維護成本。綜合節省導致成本低廉的制造過(guò)程，降低了資本支出和擁有成本 (COO)。 

• 自動(dòng)放大控制增加了工藝窗口
• 板載標線(xiàn)管理系統提供大利用率
• 用于現場(chǎng)校準的機載計量包
• 在每個(gè)曝光位置進(jìn)行動(dòng)態(tài)自動(dòng)對焦，以自動(dòng)調整面板拓撲上的焦點(diǎn)
• 提供系統性能和故障排除反饋的板載診斷

• 分辨率達 1.5µm 的高保真投影鏡頭和照明系統
• 行業(yè)標準的 6 英寸光罩格式，用于經(jīng)濟的制造