SWAGELOK隔膜閥ALD3

高純度 ALD3 和 ALD6 閥旨在為半導體制造商提供可靠、高速的前體氣體計量，用于在沉積室中逐層構建微芯片。高純 ALD3 和 ALD6 閥門(mén)可設置為常閉和常開(kāi)氣動(dòng)驅動(dòng)，它們有多種配置可供選擇，包括兩端口直管和彎管設計；二通、三通和四通多通閥和多閥歧管；以及 1.125 英寸（限 ALD3 系列）和 1.5 英寸平臺中的二端口和三端口模塊化表面安裝閥?？捎玫臒嶂聞?dòng)器、位置傳感器、螺線(xiàn)管和可選的用于容納加熱器筒的主體孔都可以根據用戶(hù)的特定過(guò)程為用戶(hù)提供額外的價(jià)值。

具有高速驅動(dòng)的高循環(huán)壽命

流量系數范圍從 0.27 到 0.62，可提供自定義流量系數

使用可選的熱致動(dòng)器可完全浸入高達 392°F (200°C) 的溫度

適用于采用標準 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的高純度應用

模塊化表面安裝、管對接焊和世偉洛克 VCR端接

電子或光學(xué)致動(dòng)器位置感應選項

ALD3 和 ALD6 隔膜由鈷基高溫合金材料組成，具有強度和耐腐蝕性；閥體由 316L VIM-VAR 不銹鋼制成，適用于高純應用；閥座由全氟化高純度 PFA 組成，具有廣泛的化學(xué)兼容性和抗溶脹性和抗污染性。