Linn High Temp自供電射頻發(fā)生器2400/0.45N

自供電射頻發(fā)生器采用推挽工藝模式功率 MOSFET，具有低電感器電壓和功率匹配，可實(shí)現快速、準確的感應加熱。由于其緊湊的設計，它特別適合實(shí)驗室和工業(yè)應用，安裝在自動(dòng)機器、鑄造生產(chǎn)線(xiàn)和機器中。適用于各種類(lèi)型的感應加熱，例如：淬火、釬焊、退火、焊接、熔煉、閃速熔煉（也在真空容器中）。適用于 0.2 至 1.7 µH 之間的電感器，具體取決于器件和電感器。帶有獨立高頻部件的開(kāi)關(guān)設備（電纜長(cháng)度 2.5 m）。射頻輸出與網(wǎng)絡(luò )電隔離。

適用于生產(chǎn)線(xiàn)應用

重量輕

易于控制和操作

感應線(xiàn)圈

用于測溫的溫度控制裝置

光學(xué)高溫計

用于其他感應區域的附加電容器

腳踏開(kāi)關(guān)

RS-485 串行接口

產(chǎn)地：德國

高頻輸出功率 (kW)：2.4

電感值（微克牛頓）：0.2 - 1.7*（* 可選擇 0.1 至 11.2 µgn）

工作頻率（千赫）：150 - 450

主電源 (kVA)：(230 伏/50 赫茲） 3.3

冷卻水流量（升/分鐘）：3

冷卻水壓：3 巴min，5 巴max

高頻部件尺寸（寬 x 高 x 長(cháng)）（mm）：432 x 140 x 400

重量（千克）：12.7

高頻部分包括電纜（寬 x 高 x 長(cháng)）（mm）：102 x 102 x 204

高頻部件重量（不含線(xiàn)圈和電纜）（kg）：4.5

運行模式：周期和連續模式

硼化、校準、鑄造、晶體生長(cháng)、化學(xué)氣相沉積（CVD 工藝）、鍛造、沸騰、寶石熱處理、粘接、石墨化、淬火、熱處理、懸浮熔化、熔化、預熱、拉伸、重熔、光譜樣品制備、熱壓、軟焊、表面保護涂層、淬火后回火