Semiconsoft薄膜測量?jì)xVIS

MProbe Vis-Thin 薄膜測量系統是一款結構緊湊、功能多樣的臺式系統。它可以測量不同基底上 10nm - 150µm 厚度范圍內的半透明薄膜。而且，它經(jīng)濟實(shí)惠，使用方便。MProbe Vis(X) 的生產(chǎn)版本可承受振動(dòng)，并可通過(guò)局域網(wǎng)連接24小時(shí)運行。它可用于在線(xiàn)和 OEM 應用。它與無(wú)塵室環(huán)境兼容。MProbe20 VisX 系統是 MProbe20 Vis 系統的一個(gè)版本，在更長(cháng)波長(cháng)（> 700 nm）下的靈敏度有所提高。

靈活性高

500 多種擴展材料數據庫

可以處理復雜的應用，沒(méi)有層數限制，支持背面反射率、表面粗糙度、暗淡度等。

集成：輕松集成 TCP 服務(wù)器

經(jīng)濟實(shí)惠，性?xún)r(jià)比高

主機（包括光譜儀、光源）

SH200A 樣品臺，帶聚焦鏡頭和微調裝置

光纖反射探頭

TFCompanion -RA 軟件、USB許可證密鑰、包含軟件發(fā)布、用戶(hù)指南和其他材料的 USB 記憶棒

USB / LAN 電纜

24VDC 電源適配器（110/220V）

產(chǎn)地：美國

厚度范圍： 10 nm - 150 μm

波長(cháng)范圍： 400nm -1000nm（典型校準范圍：380-1050nm），VisX 為 450nm -1050nm

波長(cháng)分辨率： < 小于 1 nm，狹縫為 20 微米（整個(gè)光譜均勻一致）

連接： USB / 1 GbE LAN

數據采集速率：1.5kHz（Max）

測量時(shí)間：10秒（Min）

精度：<0.01nm 或 0.02%（在 200nm 氧化物上進(jìn)行 100 次測量的 s.d.）。

準確度：<1nm 或 0.2%（取決于薄膜疊層）

穩定性：< 0.02nm 或 0.2%（每天測量 20 天）

光斑尺寸：< 1 mm

樣品尺寸：>= 10 mm

光源：5W TH 燈，10000 小時(shí)壽命（可選：20W TH 燈，2000 小時(shí)壽命）

可快速可靠地測量大多數半透明或輕吸收薄膜： 氧化物、氮化物、光刻膠、聚合物、半導體（硅、砷化鎵、aSi、聚硅等）、硬涂層（SiC、DLC、AlN）、聚合物涂層（Paralene、PMMA、聚酰胺）、ITO、電池間隙、氧化鋁、薄金屬膜（<50 納米）等。