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用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個(gè)平臺,允許獨立聚焦和掃描兩個(gè)激光點(diǎn),用于集成電路的評估。雙點(diǎn)注射工藝的理想選擇,它提供了所有空間和時(shí)間的靈活性,可以通過(guò)背面分析電路
集成電路評估雙激光站(均通過(guò)顯微鏡點(diǎn))
背面激光故障注入的理想選擇
具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸
兩個(gè)激光光斑都具有完全獨立的時(shí)間和空間調制
通過(guò)數百米的硅來(lái)觀(guān)察集成電路路徑上的激光點(diǎn)的照相機
高再現性和高分辨率激光光斑位移
包括三個(gè)阿爾法諾夫激光模塊
光學(xué)鏡頭技術(shù)
光電發(fā)射套件
熱激光刺激套件
通過(guò)CE認證的激光外殼完成自動(dòng)設置
高分辨率目標
單模光纖激光器
|
PDM+/PDM+ HP |
PDM4+ and PDM4+ HP |
脈沖持續時(shí)間 |
從1.5納秒到連續波 |
從1.5納秒到連續波 |
峰值功率 |
高達3.2瓦 |
高達10瓦 |
波長(cháng) |
980納米;1064牛米 |
980納米;1064牛米 |
重復率 |
從單發(fā)到250兆赫 |
從單發(fā)到250兆赫 |
命令接口 |
TTL/LVTTL /軟件& dlls |
TTL/LVTTL /軟件& dlls |
光束質(zhì)量 |
單模 |
單模 |
InGaAs 紅外相機
Captor |
640x512 µm |
動(dòng)態(tài)量程 |
140 dB |
接口 |
USB(包含軟件) |
電學(xué)
電壓 |
220 V/110 V |
電流 |
16 A |
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