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      ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS

      產(chǎn)品介紹

      用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個(gè)平臺,允許獨立聚焦和掃描兩個(gè)激光點(diǎn),用于集成電路的評估。雙點(diǎn)注射工藝的理想選擇,它提供了所有空間和時(shí)間的靈活性,可以通過(guò)背面分析電路

      性能特點(diǎn)

      集成電路評估雙激光站(均通過(guò)顯微鏡點(diǎn))

      背面激光故障注入的理想選擇

      具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸

      兩個(gè)激光光斑都具有完全獨立的時(shí)間和空間調制

      通過(guò)數百米的硅來(lái)觀(guān)察集成電路路徑上的激光點(diǎn)的照相機

      高再現性和高分辨率激光光斑位移

      包括三個(gè)阿爾法諾夫激光模塊

       

      可選功能與配件

      光學(xué)鏡頭技術(shù)

      光電發(fā)射套件

      熱激光刺激套件

      通過(guò)CE認證的激光外殼完成自動(dòng)設置

      高分辨率目標

      技術(shù)參數

      單模光纖激光器

       

      PDM+/PDM+ HP

      PDM4+ and PDM4+ HP

      脈沖持續時(shí)間

      1.5納秒到連續波

      1.5納秒到連續波

      峰值功率

      高達3.2

      高達10

      波長(cháng)

      980納米;1064牛米

      980納米;1064牛米

      重復率

      從單發(fā)到250兆赫

      從單發(fā)到250兆赫

      命令接口

      TTL/LVTTL /軟件& dlls

      TTL/LVTTL /軟件& dlls

      光束質(zhì)量

      單模

      單模

      InGaAs 紅外相機

      Captor

      640x512 µm

      動(dòng)態(tài)量程

      140 dB

      接口

      USB(包含軟件)

      電學(xué)

      電壓

      220 V/110 V

      電流

      16 A

       


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